FIB雙束掃描電鏡通過結(jié)合氣體沉積裝置、納米操縱儀、多種探測器和可控樣品臺等附件，實現(xiàn)了微區(qū)成像、加工、分析和操縱的一體化，在物理、化學(xué)、生物、新材料、農(nóng)業(yè)、環(huán)境和能源等多個領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用。

　　工作原理：高能離子束與樣品表面原子碰撞，導(dǎo)致樣品表面原子被濺射出來，實現(xiàn)材料的微區(qū)去除或刻蝕。通過調(diào)節(jié)離子束的能量和束流，可以控制刻蝕的深度和精度。利用離子束分解金屬有機氣體化合物，在樣品表面形成薄膜或結(jié)構(gòu)，用于樣品保護、電路修復(fù)等。SEM電子束照射樣品表面，激發(fā)二次電子等信號，通過探測器收集成像，用于定位樣品、獲取微觀結(jié)構(gòu)和監(jiān)測加工過程。在測試過程中，通過旋轉(zhuǎn)樣品臺，可以實現(xiàn)電子束的實時觀察和離子束的切割或微加工。

　　本公司提供的Helios 5 DualBeam FIB雙束掃描電鏡重新定義了高分辨率成像的標準：高材料對比度，快、簡單、準確的高質(zhì)量樣品制備，用于 S/TEM 成像和原子探針斷層掃描(APT)以及高質(zhì)量的亞表面和 3D 表征。在 Helios DualBeam 系列久經(jīng)考驗的性能基礎(chǔ)上，新一代的 Helios 5 DualBeam 進行了改進優(yōu)化，所有這些都旨在確保系統(tǒng)處于手動或自動工作流程的運行狀態(tài)。